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開講年度 | 2023 年度 | |
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開講区分 | 工学部機械工学科/総合工学科機械工学コース ・専門教育 | |
受講対象学生 |
学部(学士課程) : 3年次 工学部機械工学科 |
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選択・必修 | 選択 学科選択 |
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授業科目名 | 知的財産権概論 | |
ちてきざいさんけんがいろん | ||
Intellectual Property | ||
単位数 | 1 単位 | |
受講対象学生 | ||
選択・必修 | ||
授業科目名 | ||
単位数 | 単位 | |
ナンバリングコード | EN-COMN-3
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開放科目 | 非開放科目 | |
開講学期 |
前期集中 |
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開講時間 |
講義日指定: 8/28(月) 9:30~17:30および8/29(火) 9:30~17:30 |
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授業形態 |
対面授業 * 状況により変更される可能性があるので定期的に確認して下さい
「オンライン授業」・・・オンライン会議ツール等を利用して実施する同時双方向型の授業 |
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開講場所 | 開講場所については,掲示板で確認ください.⇒28番教室 | |
担当教員 | 狩野 幹人(みえの未来図共創機構),八神 寿徳(みえの未来図共創機構) | |
KANOU Mikihito, YAGAMI Hisanori | ||
SDGsの目標 |
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連絡事項 | 感染症などの状況によっては,オンデマンド授業に変更する可能性があります. * 状況により変更される可能性があるので定期的に確認して下さい |
授業の概要 | イノベーション(価値形成)の推進および産業競争力の復活・向上が,日本経済・産業の発展に必要不可欠であり,それらにおいて知的財産の重要性が挙げられている.知的財産は,その創出,保護・強化,活用が基本であり,それらをサイクルして継続することが研究・開発あるいは事業の推進において重要となる.したがって,将来,企業や大学において研究・開発を担う人達が知的財産について知識を有することが望まれる. そこで,知的財産権(特許,意匠,商標など),営業秘密等について平易に解説し,その基礎的知識を習得する.特許,意匠,商標などの取得方法,その活用についても説明し,知的財産の有効利用を習得する.更には,効率的な研究・開発のための特許や商標に関する情報の利用方法についても,演習により学ぶ. |
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学修の目的 | 知的財産権の概要を理解するとともに,活用方法,特許や商標に関する情報の収集・利用方法,知的財産権の取得方法を習得することを目的とする. |
学修の到達目標 | 1.特許等の知的財産の意義を理解できる. 2.特許等の知的財産に関する法律の概略が理解できる. 3.特許,意匠,商標,営業秘密のあらましについて知識を得る. 4.演習を通じて特許や商標の検索をおこない,その方法について体験する. |
ディプロマ・ポリシー |
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成績評価方法と基準 | 1.講義内で出席を取ります.(出席票を提出してもらいます.) 2.7割以上出席した者を成績評価の対象とします. 3.その上で,講義終了後の指定期間内にレポートを提出してもらいます. 4.成績評価は,出席とレポートをあわせて総合的におこない,60点以上を合格とします. |
授業の方法 | 講義 演習 |
授業の特徴 |
問題提示型PBL(事例シナリオ活用含) 地域理解・地域交流の要素を加えた授業 キャリア教育の要素を加えた授業 |
授業改善の工夫 | |
教科書 | とくに指定しません.スライドのレジュメを配布します. |
参考書 | とくに指定しませんが, 1.事業戦略と知的財産マネージメント(特許庁発行) 2.産業財産権標準テキスト-総合編-(特許庁発行) 3.産業財産権標準テキスト-特許編-(特許庁発行) 4.産業財産権標準テキスト-意匠編-(特許庁発行) 5.産業財産権標準テキスト-商標編-(特許庁発行) 6.書いてみよう明細書,出してみよう特許出願(特許庁発行) などが挙げられます. |
オフィスアワー | 集中講義の2日間の休憩時間に,講義室にて対応します. |
受講要件 | |
予め履修が望ましい科目 | |
発展科目 | 知的財産権の背景となる工学的な事例としては,「生産システム工学」の授業内で一部紹介があります. |
その他 | 単に教科書での説明でなく,パソコンを使用し,特許情報プラットフォームにアクセスすることで,演習によって特許や商標の検索を実体験してもらいます. |
MoodleのコースURL |
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キーワード | 知的財産権, 発明,特許,新規性,進歩性,意匠,商標,営業秘密,特許情報,商標情報 |
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Key Word(s) | Intellectual property, Invention, Patent, Novelty, Inventive step, Design, Trade mark, Trade secret, Patent information, Trade mark information |
学修内容 | 集中講義であるため,通常の講義の8回分を以下の内容に分けて講義をおこないます. 第1回 1.知的財産権の概要 2.発明と特許(特許になる発明,特許権等) 3.特許・営業秘密の活用と管理 4.意匠,その活用と管理 第2回 5.商標,その活用と管理 6.特許情報の検索(特許情報プラットフォームにアクセスし,パソコンにより演習) 7.意匠情報の検索(特許情報プラットフォームにアクセスし,パソコンにより演習) 8.商標情報の検索(特許情報プラットフォームにアクセスし,パソコンにより演習) 以上の授業内容を2日間の集中講義によっておこないます.具体的なスケジュールについては,掲示などにて連絡します. |
事前・事後学修の内容 | ○授業で事前に配布またはMoodleに掲載された資料がある場合には授業前に読んでおくこと. ○授業で学習した内容を復習しておくこと. ○特許情報などの検索に関しては,授業時間内のみでは時間が不十分であるため,授業時間外で検索や文献内容の確認などをおこなうこと. |
事前学修の時間:225分/回 事後学修の時間:225分/回 |