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| 開講年度 | 2017 年度 | |
|---|---|---|
| 開講区分 | 工学研究科(博士前期課程)電気電子工学専攻 | |
| 領域 | 主領域 : E; 副領域 : F | |
| 受講対象学生 |
大学院(修士課程・博士前期課程・専門職学位課程) : 1年次, 2年次 |
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| 選択・必修 | 選択 |
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| 授業科目名 | 電子デバイスプロセス設計特論 | |
| でんしでばいすぷろせすせっけいとくろん | ||
| Electronic Device Process Design | ||
| 単位数 | 2 単位 | |
| 他学部・他研究科からの受講 |
他研究科の学生の受講可 |
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| 市民開放授業 | 市民開放授業ではない | |
| 開講学期 |
前期 |
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| 開講時間 |
月曜日 3, 4時限 |
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| 開講場所 | 工学部13番教室 | |
| 担当教員 | 佐藤 英樹（工学研究科電気電子工学専攻） | |
| SATO， Hideki | ||
| 授業の概要 | 半導体集積回路や液晶ディスプレイなどの電子デバイスは、ナノスケールの膜厚を持つ極めて薄い膜を形成する技術、すなわち薄膜作製技術により成り立っているといっても過言ではない。そのため最先端電子デバイスにおいては、必要とされる特性を持つ薄膜材料を作製し、さらに必要な形状に加工するためのプロセス設計技術が不可欠である。 本講義では、薄膜作製技術の基礎となる表面物性工学、真空工学、薄膜工学について講義し，各種成膜技術（蒸着、スパッタリング、CVDなど）、ドライエッチング技術、薄膜評価技術について理解してもらうことを目指す。さらに，これら技術と先端ナノエレクトロニクスとの関連について理解することを目指す。 |
|---|---|
| 学習の目的 | ・電子デバイスプロセスの概要について理解する。 ・真空技術、表面物性工学、薄膜工学について理解する。 ・上記の知識を、ナノエレクトロニクス研究や先端電子材料研究などで応用できるようになる。 |
| 学習の到達目標 | 電子デバイスプロセスにおいて重要な位置を占める薄膜形成技術に重点を置き，下記の各事項について理解する。 （１）薄膜とは何か （２）なぜ薄膜を形成する必要があるのか （３）薄膜はどのように形成されるのか （４）形成される薄膜の品質に影響する要因は何か （５）各種薄膜材料（金属、半導体、絶縁体）は身の回りでどのように利用されているか （６）作製した薄膜はどのように評価するか （７）形成した薄膜はどのように加工するか （８）先端薄膜材料にはどのようなものがあるか |
| ディプロマ・ポリシー |
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| 授業の方法 | 講義 |
| 授業の特徴 | |
| 教科書 | 教科書については授業開始時に連絡する。 |
| 参考書 | 麻蒔立男「薄膜作成の基礎」日刊工業新聞社、 金原 粲，藤原英夫，応用物理学選書３「薄膜」裳華房， C. Y. Chang and S. M. SZE, "ULSI TECHNOLOGY" McGraw-Hill, 1996， など |
| 成績評価方法と基準 | 受講態度および提出レポートにより評価を行う。なお、5回以上欠席した場合は原則として不合格とする。 |
| オフィスアワー | 毎週月曜日 12:00～13:00 場所：電気電子棟1階 1112室 なお、可能であれば随時対応するので、電子メール（sato@elec.mie-u.ac.jp)で確認のこと。 |
| 受講要件 | 特になし |
| 予め履修が望ましい科目 | 熱力学、半導体工学、電気電子物性論、電子デバイスプロセス設計特論 |
| 発展科目 | |
| 授業改善への工夫 | 授業時に随時、意見を聞き、授業内容に反映させる。 |
| その他 | 適宜，レポートを課します。 |
| キーワード | 電子デバイスプロセス、薄膜、真空、表面，気体分子運動論 |
|---|---|
| Key Word(s) | Fabrication processes for electronic devices, thin film, vacuum, surface, kinetic theory of gases |
| 学習内容 | 第１回 薄膜工学概論／真空工学（１） 気体の分子運動論① 第２回 真空工学（２） 気体の分子運動論② 第３回 真空工学（３） 輸送現象 第４回 真空工学（４） 真空ポンプ，真空計測 第５回 真空工学（５） 真空システム設計 第６回 表面物性工学（１） 表面の性質 第７回 表面物性工学（２） 表面構造の幾何学 第８回 表面物性工学（３） 表面の熱力学 第９回 表面物性工学（４） 気体分子と表面の相互作用① 第１０回 表面物性工学（５） 気体分子と表面の相互作用② 第１１回 薄膜工学（１） 薄膜形成現象 第１２回 薄膜工学（２） 薄膜形成法① 物理的気相成長法 第１３回 薄膜工学（３） 薄膜形成法② 化学的気相成長法 第１４回 薄膜工学（４） 薄膜評価法 第１５回 薄膜工学（５） 薄膜形成関連技術 （以上については，変更になる場合があります） |
| 学習課題(予習・復習) | 授業内容について，かならず復習して下さい。また，自分の修士論文研究において本講義の内容がどのように役に立つか，という観点に立ち本講義を聴講して下さい。 |
| ナンバリングコード(試行) | EN-EMAT-5 |
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※最初の2文字は開講主体、続く4文字は分野、最後の数字は開講レベルを表します。 ナンバリングコード一覧表はこちら