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開講年度 | 2024 年度 | |
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開講区分 | 地域イノベーション学研究科(博士前期課程) | |
受講対象学生 |
大学院(修士課程・博士前期課程・専門職学位課程) : 1年次 |
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選択・必修 | 選択 |
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授業科目名 | 工学イノベーション特論Ⅱ | |
こうがくイノベーションとくろん に | ||
Engineering Innovation Ⅱ | ||
単位数 | 2 単位 | |
ナンバリングコード | inov-inov-ENGR-5-1-1-1-002
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開放科目 | 非開放科目 | |
開講学期 |
前期 |
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開講時間 |
火曜日 3, 4時限 |
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授業形態 |
対面授業 * 状況により変更される可能性があるので定期的に確認して下さい
「オンライン授業」・・・オンライン会議ツール等を利用して実施する同時双方向型の授業 |
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開講場所 | 地域イノベーション研究開発拠点D棟4階 第2講義室 | |
担当教員 | 三宅秀人 | |
MIYAKE, Hideto | ||
実務経験のある教員 | ||
SDGsの目標 |
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連絡事項 | * 状況により変更される可能性があるので定期的に確認して下さい |
授業の概要 | 私たちの身の回りには半導体を用いた機器が数多く存在する。本授業では半導体材料や半導体素子の分析と計測について学び、半導体の高性能化を支える技術について理解を深める。 |
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学修の目的 | 半導体材料の品質と半導体素子の性能を正しく評価するために必須となる分析・計測技術について、その背景となる物理現象も含めて理解することを目的とする。 |
学修の到達目標 | 半導体材料の品質と半導体素子の性能の関係について理解し、説明することができる。 光・X線・電子線などのプローブが有する特性と、調べる対象となる材料や素子が有する特性の関係について理解し、適切な手法を選択することができる。 代表的な半導体素子の動作原理とその性能を評価する手法を理解し、説明することができる。 |
ディプロマ・ポリシー |
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成績評価方法と基準 | 講義での質疑とレポート によって成績を評価する。 |
授業の方法 | 講義 |
授業の特徴 | |
授業アンケート結果を受けての改善点 | 学生との対話を通して理解度と興味関心の把握に努め、必要に応じて講義内容の補足を行う。 |
教科書 | 特に指定しないが、適宜参考となる図書や文献を紹介する。 |
参考書 | 特に指定しないが、適宜参考となる図書や文献を紹介する。 |
オフィスアワー | 火曜日 12:00-13:00 地域イノベーション研究開発拠点D棟2階 |
受講要件 | |
予め履修が望ましい科目 | |
発展科目 | |
その他 |
MoodleのコースURL |
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キーワード | 半導体, 光・電子デバイス, トランジスタ, LED, レーザーダイオード, 太陽電池 |
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Key Word(s) | Semiconductors, Optoelectronic devices, Transistors, Light-emitting diodes, Laser diodes, Photovoltaic cells |
学修内容 | 第1回:はじめに(ガイダンス:講義内容) 第2回:半導体・金属・絶縁体 第3回:半導体デバイス 第4回:結晶成長 第5回:プラズマ 第6回:真空成膜 第7回:光学多層膜 第8回:エッチング 第9回:プロセスインテグレーション 第10回:欠陥の種類と解析 第11回:結晶評価技術 第12回:結晶中の回折現象 第13回:X線回折と解析技術 第14回:デバイス評価技術 第15回:オペランド評価 |
事前・事後学修の内容 | 事前学習は求めないが、事後学習として、各回の授業内容についての理解を深めるために配布資料と参考文献に基づいた学習を必要とする。 第1回:はじめに(ガイダンス:講義内容) 第2回:半導体・金属・絶縁体 第3回:半導体デバイス 第4回:結晶成長 第5回:プラズマ 第6回:真空成膜 第7回:光学多層膜 第8回:エッチング 第9回:プロセスインテグレーション 第10回:欠陥の種類と解析 第11回:結晶評価技術 第12回:結晶中の回折現象 第13回:X線回折と解析技術 第14回:デバイス評価技術 第15回:オペランド評価 |
事前学修の時間: 事後学修の時間:240分/回 |